Forum スポンサーリンク 2026.05.16 MenuForum NavigationForumMembersActivityLoginRegisterForum breadcrumbs - You are here:ForumShareKnowledge: ClaudeCodeClaudeCode001Post ReplyPost Reply: ClaudeCode001 <blockquote><div class="quotetitle">Quote from Guest on 2026-05-23, 20:27</div>- CAE利用促進の理由 ┗ ウェハー製造 ┗ 構造解析 ┗ 代替ポリマー材料の強度・耐薬品性を仮想評価 ┗ 流体・熱解析シミュレーション ┗ 代替洗浄液の洗浄効果を事前検証・実機試験コスト削減、乾燥プロセスの温度分布最適化で溶剤使用量を最小化 ┗ フォトマスク ┗ 構造解析 ┗ ペリクル膜代替材料（窒化シリコン薄膜等）の機械的耐久性シミュレーション ┗ 電磁波解 ┗ EUVマスクの反射率・位相特性を仮想検証し、設計手戻りを防止 ┗ 光学シミュレーション（波動光学解析） ┗ マスクパターン・寿命の最適設計 ┗ 成膜 ┗ 流体シミュレーション ┗ チャンバー内ガス流れ最適化・使用料削減 ┗ 熱シミュレーション ┗ ウェーハ面内温度均一化による成膜ばらつき低減・歩留まり向上 ┗ 材料シミュレーション ┗ 代替前駆体の反応特性を仮想評価し、実験コスト削減 ┗ レジスト塗布 ┗ 流体解析 ┗ 塗布膜厚均一性・塗布量の最適化 ┗ 熱シミュレーション ┗ 溶剤蒸発・乾燥工程の歩留まり改善 ┗ 材料シミュレーション ┗ 代替レジスト組成の塗布・感度特性を仮想評価 ┗ 露光 ┗ 光学シミュレーション ┗ 露光条件最適化シミュレーションで歩留まり維持 ┗ 電磁波解析 ┗ EUVミラー最適設計で照明効率向上・スループット改善 ┗ 機構解析 ┗ 露光ステージの振動・熱変形シミュレーション</blockquote><br> Cancel
