Forum スポンサーリンク 2026.05.16 MenuForum NavigationForumMembersActivityLoginRegisterForum breadcrumbs - You are here:ForumShareKnowledge: ClaudeCodeClaudeCode001Post ReplyPost Reply: ClaudeCode001 <blockquote><div class="quotetitle">Quote from Guest on 2026-05-24, 09:02</div>企業名 影響金額（億円） ニュース概要 一次ソース 発表日 信越化学工業 株式会社 非公表 露光・レジスト塗布：公式発表ではナフサ不足による影響額・供給停止は未確認。半導体露光材料の需要増と事業継続・リスク分散を目的に国内第4拠点を新設。ナフサ由来の石油化学基礎製品不足は共通リスクとして要監視。 信越化学公式ニュース「信越化学、国内で新拠点を設営」 https://www.shinetsu.co.jp/jp/news/news-release/%E4%BF%A1%E8%B6%8A%E5%8C%96%E5%AD%A6%E3%80%81%E5%9B%BD%E5%86%85%E3%81%A7%E6%96%B0%E6%8B%A0%E7%82%B9%E3%82%92%E8%A8%AD%E5%96%B6/ 2024.04.09 株式会社 SUMCO 非公表 ウェハー製造：公式発表ではナフサ不足による影響額・供給停止は未確認。製品は高純度シリコンウェーハで、公式資料上の確認ポイントは最高品質原材料・品質管理・安定供給体制。ナフサ不足との直接関係は確認できず。 SUMCO公式「半導体用ウェーハ 製品一覧」 https://www.sumcosi.com/products/lineup.html 確認中 TOPPANホールディングス 株式会社 非公表 フォトマスク・露光：公式発表ではナフサ不足による影響額・供給停止は未確認。テクセンドフォトマスクがEUVを含む次世代プロセス対応とグローバル供給体制拡充を掲げる。フォトマスク材料・有機RDL等は石油由来化学品供給リスクの確認対象。 TOPPAN公式ニュース「SEMICON JAPAN 2025に出展」 https://www.holdings.toppan.com/ja/news/2025/12/newsrelease251210_1.html 2025.12.10 大日本印刷 株式会社 非公表 フォトマスク・露光：公式発表ではナフサ不足による影響額・供給停止は未確認。2nm世代EUV向けフォトマスク製造プロセス開発を加速。DNP資料ではNILで基板上の樹脂にパターン転写する技術にも言及しており、樹脂・レジスト系原料はナフサ不足時の確認対象。 DNP公式ニュース「2ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセス開発を加速」 https://www.dnp.co.jp/news/detail/20173719_1587.html 2024.03.27 HOYA 株式会社 非公表 フォトマスク・成膜：公式発表ではナフサ不足による影響額・供給停止は未確認。半導体製造用マスクブランクスはガラス基板上に多層の金属膜を成膜した部材。2025年版統合報告書ではEUV先端ノードでのポジション維持とキャパシティ拡大に言及。 HOYA統合報告書2025「情報・通信事業」 https://www.hoya.com/ir/2025/ja/review/it.html 2025年版 AGC 株式会社 非公表 フォトマスク・成膜：公式発表ではナフサ不足による影響額・供給停止は未確認。EUVマスクブランクスの生産能力を2025年に約30%増強予定。AGCはガラス材料からコーティングまで一貫して手掛けるEUVマスクブランクスメーカーと説明。 AGC公式ニュース「EUV露光用フォトマスクブランクスの生産能力を増強」 https://www.agc.com/news/detail/1203818_2148.html 2023.04.27 JSR 株式会社 非公表 レジスト塗布・成膜：公式発表ではナフサ不足による影響額・供給停止は未確認。JSR/InpriaとLam ResearchがEUV向けフォトレジスト、MOR、ALD/CVD対応次世代材料で協業。フォトレジスト・多層材・洗浄剤等の有機材料はナフサ由来化学品不足時の確認対象。 JSR公式ニュース「JSR/InpriaとLam Research、次世代半導体製造に向けたクロスライセンス契約および協業に合意」 https://www.jsr.co.jp/news/2025/20250916.html 2025.09.16 東京応化工業 株式会社 非公表 レジスト塗布：公式発表ではナフサ不足による影響額・供給停止は未確認。韓国子会社で高純度化学薬品製造棟を新設し、強固なサプライチェーン構築と安定供給体制を目指す。投資額は約120億円だが、ナフサ不足の影響額ではない。 TOK公式ニュース「韓国子会社における平澤工場の新設に関するお知らせ」 https://www.tok.co.jp/news/2025/250806_5 2025.08.06 住友化学 株式会社 非公表 レジスト塗布：公式発表ではナフサ不足による半導体用フォトレジストへの影響額・供給停止は未確認。大阪工場にEUV・ArF先端半導体用フォトレジスト技術棟を新設し、原料の先行評価から出荷までの管理高度化と安定供給を強化。 住友化学公式ニュース「大阪工場に先端半導体用フォトレジスト技術棟を新設」 https://www.sumitomo-chem.co.jp/news/detail/20260409.html 2026.04.09 富士フイルム 株式会社 非公表 レジスト塗布・成膜：公式発表ではナフサ不足による影響額・供給停止は未確認。静岡工場で先端半導体材料の開発・評価新棟が稼働し、EUV・ArF・NILなどの先端レジスト、薄膜形成材、ポリイミド、高純度プロセスケミカル等の開発・安定供給を強化。 富士フイルム公式ニュース「静岡工場 先端半導体材料の新棟が竣工」 https://www.fujifilm.com/jp/ja/news/list/13134 2025.11.25</blockquote><br> Cancel
